比利时微电子狡计中心（IMEC）和阿斯麦6月3日文告，由两边共同运营的High-NA EUV光刻本质室（High NA EUV Lithography Lab）在荷兰费尔德霍芬（Veldhoven）开幕，该本质室可提供High NA EUV扫描仪（TWINSCANEXE：5000）及相近贬责器具。声明中称，该本质室的启用是为无数目出产High NA EUV作念准备的一个里程碑，展望将于2025-2026年竣事无数目出产。